蘇黎世SwissLitho公司與澳大利亞的EV Group公司共同開發(fā)出一種能夠制造納米級(jí)光學(xué)組件的新型納米壓印光刻（NIL）技術(shù)。

此次合作建立在先前由IBM Research研發(fā)并獲得歐盟1760萬歐元資助的項(xiàng)目的基礎(chǔ)之上，將EV Group的“Hercules”系統(tǒng)與SwissLitho公司的“NanoFrazor”熱掃描探針進(jìn)行整合。

該種方法能夠大量復(fù)制高精度的三維結(jié)構(gòu)，公司的最初研究方向?yàn)閼?yīng)用于數(shù)據(jù)通信、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）、虛擬現(xiàn)實(shí)（VR）等應(yīng)用中的衍射光學(xué)元件（DOF）以及其他光學(xué)組件。

“印章”全息圖

試驗(yàn)生產(chǎn)線

EV Group在奧地利建立了“納米壓印光刻技術(shù)中心”，并邀請了光子學(xué)領(lǐng)域的專家們對可行性研究以及小規(guī)模生產(chǎn)進(jìn)行了技術(shù)評估。

EV Group公司的技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner表示：“如今，我們已合作研究出納米光刻技術(shù)完整的解決方案，該方法可用于三維結(jié)構(gòu)制造以及其他光子學(xué)應(yīng)用，并為雙方公司擴(kuò)大了客戶群以及市場覆蓋面。”

該技術(shù)最初由著名的蘇黎世IBM Research實(shí)驗(yàn)室研究，SwissLitho公司的“NanoFrazor”熱掃描探針也在此研發(fā)。無掩膜式直寫光刻技術(shù)需要在圖案形成之前將熱敏抗蝕劑旋轉(zhuǎn)涂抹至樣品表面，后使用極其尖銳的加熱尖端進(jìn)行局部分解以及抗蝕劑蒸發(fā)，同時(shí)檢查已寫入的納米結(jié)構(gòu)。

SwissLitho解釋稱：“由此產(chǎn)生的任意光致抗蝕圖可以通過剝離、蝕刻、電鍍、成型或其他方法轉(zhuǎn)移到任何其他材料上，最終形成納米壓印的‘主印章’?！?/span>

EV Group的“Hercules”紫外納米壓印光刻系統(tǒng)能夠大量復(fù)制納米壓印圖案的三維結(jié)構(gòu)，為直徑為200mm的晶片提供高達(dá)40wph的產(chǎn)能。

單納米精度

SwissLitho的首席執(zhí)行官Felix Holzner表示：“NanoFrazor為昂貴的電子束光刻系統(tǒng)提供高性能且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的替代方案和擴(kuò)展方法。”

“該技術(shù)允許在單步執(zhí)行中制造具有多種‘級(jí)別’的主圖案。特別是對于單納米精度的三維結(jié)構(gòu)而言，其生產(chǎn)方法比起傳統(tǒng)電子束光刻或灰度光刻方法更為簡單并具有更高的保真度?！?/span>

SwissLitho、IBM Research以及EV Group共同參加了由歐盟第七框架協(xié)議（FP7）支持的“超越CMOS的單納米制造”（SNM）項(xiàng)目。

該項(xiàng)目持續(xù)時(shí)間為2013年1月至2017年3月，由德國伊爾梅瑙工業(yè)大學(xué)的首席研究員Ivo Rangelow領(lǐng)導(dǎo)。其他合作伙伴包括英國牛津儀器公司、比利時(shí)半導(dǎo)體開發(fā)中心以及倫敦帝國理工學(xué)院等。

項(xiàng)目主要目標(biāo)是將最先進(jìn)的光刻技術(shù)推向單一納米尺度，以產(chǎn)生超低功耗電子、量子器件以及控制單個(gè)電子的能力。

SwissLitho公司由聯(lián)合創(chuàng)始人Holzner與公司首席技術(shù)官Philip Paul于2012年共同創(chuàng)立，他們曾經(jīng)于IBM Research共同領(lǐng)導(dǎo)了NanoFrazor技術(shù)的研究。此后，SwissLitho建立了全球銷售網(wǎng)絡(luò)，曾向美國空軍研究實(shí)驗(yàn)室、澳大利亞墨爾本納米制造中心以及荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究組織（TNO Delft）銷售產(chǎn)品。